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CVD氣相沉積爐是Chemical Vapor Deposition的簡稱，是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。

陶瓷基板（氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、氧化鋯、氧化鋯增韌氧化鋁即 ZTA等）由于其優(yōu)異的熱學(xué)、力學(xué)、化學(xué)和介電性能，從而在半導(dǎo)體芯片封裝、傳感器、通訊電子、手機(jī)等智能終端、儀器儀表、新能源、新光源、汽車高鐵、風(fēng)力發(fā)電、機(jī)器人、航天航空和國防軍工等高科技